開放式光柵尺是一種基于光學原理的高精度位移測量裝置，其工作原理巧妙運用了莫爾條紋技術。通過標尺光柵與指示光柵的相對運動產生明暗相間的干涉條紋，再經光電轉換和電子細分處理，將微小位移轉化為可計數的數字信號。以下是具體分析：
標尺光柵：固定在設備基座上的長尺，表面刻有精密等距的柵線（柵距通常為20~100μm）。
指示光柵：安裝在讀數頭內的小型光柵，其柵距與標尺光柵匹配，二者保持微小夾角或平行放置。
光源與光電探測器：紅外LED或激光二極管提供照明，光電元件陣列（如四組光電池）接收莫爾條紋的光強變化。
2.關鍵工作過程
莫爾條紋生成：當兩光柵相對移動時，因光的干涉效應形成垂直于柵線的條紋。例如，柵距20μm的光柵可通過夾角設計使條紋寬度放大至毫米級，實現機械位移的光學放大。
信號轉換與細分：光電探測器將條紋移動轉化為正弦/余弦電信號，通過相位差辨向（判斷移動方向），并利用電子內插技術將單個周期細分為數千份，分辨率可達納米級。
開放式光柵尺憑借非接觸測量、超高分辨率及靈活安裝特性，成為高*裝備制造的核心傳感組件。其應用涵蓋以下場景：
1.數控機床：實時監測刀具與工件坐標，補償運動誤差，提升加工精度。
2.三坐標測量機：作為三維尺寸測量的核心部件，支持復雜曲面掃描與逆向工程。
3.直線電機控制：提供高速位置反饋，確保動態響應與穩定性。
4.自動化產線：機器人導航、晶圓搬運等場景中實現亞微米級定位。
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產品分類 / PRODUCT
更新時間：2025-11-06 
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